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當前位置：天津市九所科技發(fā)展有限公司>>產(chǎn)品展示>>PEVCD
PECVD設(shè)備是一種利用等離子體技術(shù)來促進化學反應的設(shè)備，具有高沉積速率、高均勻性和高附著力等特點，能夠制備出高質(zhì)量、高性能的薄膜材料。應用領(lǐng)域包括但不限于光伏...
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